我國半導體產業爆發重大國安級機密外洩案。前台積電工程師陳力銘到日商東京威力科創公司任職後，涉嫌勾結任職於台積電的舊僚，大規模翻拍竊取受《國家安全法》保護之「2奈米核心關鍵技術」等機密。智慧財產及商業法院今（27日）審結，依《國安法》等罪重判主謀陳力銘有期徒刑10年；共犯吳秉駿、戈一平分別獲判3年與2年；洩漏14奈米製程之工程師陳韋傑判刑6年，而東京威力科創公司以法人身分，在此案也度被起訴2罪，檢方分別求處罰金1.2億元與2500萬元，最終法院判處1.5億罰金，緩刑3年。
判決指出，陳力銘於2022年離開台積電後，跳槽至供應商東京威力科創。2023年間，東京威力爭取台積電2奈米蝕刻設備供應商資格失利，陳力銘為求表現，誘使仍在台積電任職的學弟吳秉駿、戈一平，利用遠端登入系統之便，讓陳力銘翻拍2奈米晶片製程及實驗數據等機密影像數百張。
此外，檢調擴大清查發現，另名台積電工程師陳韋傑亦涉案，將14奈米以下製程之關鍵化學品與設備技術等營業秘密洩露給陳力銘。上述技術均屬國安法核定之「國家核心關鍵技術」，對我國半導體國際競爭力具備戰略地位。
滅證上司遭判10個月 日商東京威力併科罰金1.5億
案發後，陳力銘在東京威力的上司盧怡尹，涉嫌在得知公司受查時，擅自刪除雲端硬碟中儲存的台積電14奈米製程資料。合議庭今日依滅證罪判處盧怡尹有期徒刑10個月，緩刑3年。
而在本案中被依《國安法》起訴的法人實體「東京威力公司」，法官認定其未能善盡防範與管理職責，兩次起訴合併判處罰金新台幣1.5億元，緩刑3年。
目前主謀陳力銘與共犯陳韋傑仍遭羈押。獲准交保的吳秉駿（保金300萬元）與戈一平（保金200萬元）雖獲停押，但仍受限制住居、出境及科技設備監控，以防逃匿。
法官強調，2奈米製程技術為國家核心資產，被告等人為謀個人與職涯私利，嚴重損害國家安全及產業優勢，故予以重懲。全案仍可上訴。
